清潔度無塵室較主要之作用在于控制產品（如硅芯片等）所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產品能在一個良好之環(huán)境空間中生產、制造，此空間我們稱之為無塵室。按照慣例，無塵凈化級別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標準的粒子數(shù)量來規(guī)定。也就是說所謂無塵并非100%沒有一點灰塵，而是控制在一個非常微量的單位上。當然這個標準中符合灰塵標準的顆粒相對于我們常見的灰塵已經是小的微乎其微，但是對于光學構造而言，哪怕是一點點的灰塵都會產生非常大的負面影響，所以在光學構造產品的生產上，無塵是必然的要求。

　　每立方米將大于0.5微米粒徑的微塵數(shù)量控制在3500個以下，就達到了無塵標準的*。應用在芯片級生產加工的無塵標準對于灰塵的要求高于*，這樣的高標主要被應用在一些等級較高芯片生產上。微塵數(shù)量被嚴格控制在每立方米1000個以內，這也就是業(yè)內俗稱的1K級別。

　　清潔度無塵室的整體規(guī)劃布局：

　　風淋室、傳遞穿、可視玻璃窗

　　凈化結構部分、凈化系統(tǒng)部分、配電系統(tǒng)

　　各個功能區(qū)域的劃分，例如：清洗制樣區(qū)域、顆粒分析區(qū)域、文件存放區(qū)域等

　　清潔度無塵室滿足ISO14644-2015、GB50073-2001等標準要求